可定制化提供硅基材料的纳米级波导结构加工。
在SOI、氮化硅、氧化硅玻璃等材质衬底上，通过EBL电子束光刻技术一次或多次套刻曝光实现衍射/常规波导结构的加工。亦可对波导端面进行抛光从而实现对光波的耦入和耦出。
产品特点
适用工艺
采用EBL结合后续刻蚀及端抛工艺，实现器件完整的光学通路。
产品应用
光波导/光栅/DOE/AR&VR等领域。
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