美国进口Kurt Lesker多靶位金属膜磁控溅射系统，匹配反应离子溅射模块，既可以实现金属膜层沉积，也可以沉积氧化铝、氧化铪、氧化硅、VO2\GST225等相变材料。 1. 极限真空：≤3×10-5 Pa； 2. 最大加热温度 300℃，控温精度±0.1℃； 3. 溅射靶参数：装配三支靶枪，其中两支为强磁靶，靶材直径为Φ50mm； 4. 溅射靶枪电源：两台直流电源，最大功率 300W；一台射频电源，最大功率 500W； 5. 样品尺寸：最大 6英寸样品一件，向下兼容。